Como controlar com precisão a camada de barreira do filme BOPP por parâmetros de revestimento a vácuo?

O excelente desempenho de barreira de Filme BOPP metalizado sede de calor é essencialmente derivado do controle extremo do comportamento de substâncias microscópicas pelo processo de revestimento a vácuo. No processo de transformação do alvo metálico para a camada de barreira de nível nano, todas as pequenas alterações nos parâmetros do processo afetam diretamente a microestrutura e o desempenho protetor da camada de metal. Essa coordenação profunda e controle preciso de fatores-chave, como grau de vácuo, taxa de evaporação e tempo de deposição, constituem o núcleo de construção de uma camada de barreira de alto desempenho. Como o parâmetro ambiental básico para a transmissão atômica, o controle do grau de vácuo determina diretamente se os átomos de metal podem atingir com sucesso o substrato BOPP. Em um ambiente de alto vácuo, a densidade das moléculas de gás é extremamente baixa, para que os átomos metálicos possam reduzir a interferência de colisão nas moléculas de gás e migrar em alta velocidade em uma trajetória quase reta. Quanto maior o grau de vácuo, melhor: o grau de vácuo muito alto enfraquecerá o efeito "orientador" das moléculas de gás nos átomos de metal, resultando na dispersão das áreas de deposição atômica e dificuldade em formar uma camada uniforme de filme; Se o grau de vácuo for muito baixo, os átomos colidirão com frequência durante a transmissão e a trajetória do movimento será dispersa, o que não apenas reduzirá a eficiência da deposição, mas também pode causar átomos de metal a formar estruturas de ilha descontínuas na superfície da BOPP. Portanto, de acordo com as características dos materiais metálicos e do desempenho do equipamento, o grau de vácuo precisa ser mantido em um intervalo específico, para que os átomos de metal possam manter a transmissão eficiente e a deposição ordenada na superfície do substrato. Como a variável núcleo que afeta a microestrutura da camada metálica, a taxa de evaporação forma um equilíbrio delicado com o processo de difusão atômica. Quando a taxa de evaporação é muito rápida, um grande número de átomos de metal chega à superfície do BOPP por unidade de tempo, e os átomos não têm tempo para difundir e se acumular totalmente, formando uma estrutura colunar solta e porosa. Esses poros são como canais de permeação de nível molecular, que enfraquecem bastante as propriedades da barreira do filme e permitem que pequenas moléculas, como oxigênio e vapor de água, penetrem facilmente. Pelo contrário, embora uma taxa de evaporação lenta possa garantir a difusão total dos átomos, ela estenderá o ciclo de produção e aumentará os custos de consumo de energia. A taxa de evaporação ideal precisa ser otimizada em coordenação com a temperatura do substrato: aumentar moderadamente a temperatura do substrato pode aumentar a capacidade de difusão da superfície dos átomos e promover a formação de uma camada densa e contínua de filme; Mas se a temperatura estiver muito alta, o substrato BOPP pode suavizar e deformar e, ao mesmo tempo, agravar a dessorção dos átomos, afetando o efeito de deposição. O controle preciso do tempo de deposição determina a espessura final e a integridade da camada de metal. Em teoria, estender o tempo de deposição pode aumentar a espessura da camada de metal e melhorar o desempenho da barreira, mas na operação real, o desempenho abrangente do filme deve ser levado em consideração. Uma camada de metal excessivamente espessa não apenas aumenta o custo do material, mas também reduz a flexibilidade e a transparência do filme, afetando os processos subsequentes de vedação de calor e impressão. Mais importante, durante o processo de deposição longa, o impacto das flutuações do processo será amplificado e até mesmo um pequeno desvio de parâmetro pode levar a espessões irregulares locais ou defeitos de orifício. Portanto, é necessário usar a tecnologia de monitoramento on -line para feedir os dados da espessura da camada de metal em tempo real e ajustar dinamicamente o tempo de deposição em combinação com os padrões predefinidos para garantir que as propriedades mecânicas e a aplicabilidade de processamento do filme sejam mantidas e, ao mesmo tempo, alcançar o melhor desempenho de barreira. Existe uma relação de acoplamento complexa entre os vários parâmetros do processo. Por exemplo, ao ajustar a taxa de evaporação, o grau de vácuo precisa ser otimizado simultaneamente para garantir a eficiência da transmissão atômica; Alterar o tempo de deposição requer reavaliação da correspondência da temperatura do substrato e da taxa de evaporação. Essa regulação coordenada dos parâmetros precisa ser baseada em um profundo entendimento das propriedades do material e do desempenho do equipamento. Somente através do acúmulo de uma grande quantidade de dados experimentais e otimização de modelos de processo, a melhor combinação de parâmetros pode ser encontrada. O equipamento de produção avançado usa um sistema de controle automatizado para monitorar e ajustar dinamicamente vários parâmetros em tempo real para formar um mecanismo de feedback de circuito fechado para garantir uma saída estável do processo entre diferentes lotes de produção. O processo de revestimento a vácuo de filme BOPP metalizado sede em calor é um modelo de profunda integração da ciência do material, química física e tecnologia de engenharia. Através do controle preciso de parâmetros como grau de vácuo, taxa de evaporação, tempo de deposição etc., o comportamento dos átomos de meta